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2009/02/11

Intel desvela nueva tecnología de proceso 32nm

Fuente: islaBit.

Intel ha mostrado el primer procesador de 32nm y desvela sus planes de su última tecnología de proceso. Probablemente habéis pensado en algún momento que un transistor de 45nm es bastante pequeño, pero Intel dice bien claro que va a llevar su tecnología de silicio al máximo, y muestra de ello es la demostración que acaba de presentar al mundo con su primer procesador de 32nm, aunque no tengan una nueva arquitectura. Estos son llamados Westmere.

La compañía planea gastar nada menos que 7mil millones de dólares en los próximos dos años en la construcción de cuatro plantas de fabricación de 32nm, y la creación de 7mil puestos de trabajo altamente cualificados en los Estados Unidos. Una de las cuatro plantas ya está en marcha y funcionando en Oregon, mientras que otra planta está prevista que esté en pleno funcionamiento antes de que finalice el año, y las otras dos plantas se construirán en Arizona y Nuevo Mexico en 2010.

Los procesadores de 32nm se basan en los primeros materiales utilizados en los chips de Intel 45nm, con un alto k puerta dieléctrica y una puerta de metal, a diferencia del antiguo dieléctrico SiO2 y polisilicio que se utilizaban en los Intel 65nm. Sin embargo, Intel ha querido señalar que ahora la tecnología de alto k dieléctrico y puerta de metal está en su segunda generación.

Las mejoras incluyen una reducción de espesor de 1.0mm en el óxido del alto k dieléctrico en un chip de 45nm y 0.9nm para un chip de 32nm, mientras que la longitud de la puerta se ha apretado de 35nm a 30nm. Como resultado de esto, Intel dice que ha visto mejoras de rendimiento de más del 22% con los nuevos transistores. La empresa también afirma que la segunda generación del alto k más la puerta de metal reducen más la fuente de fugas que la tecnología de 45nm, lo que significa que los transistores requieren menos potencia para encenderse y apagarse.

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